工藝流程

　　設備新工藝一:

　　原水(設有壓力保護)→增壓泵→砂過濾器→炭過濾器→軟化器(根據地區不合選用)→緊密過濾器(或稱保安過濾器)→兩頭水箱→RO前水泵→緊密過濾器(或稱保安過濾器)→RO高壓泵→RO反滲透系統→RO水箱→RO水增壓泵→混床→終端緊密過濾→UV紫外線殺菌→設備用水(水質可以達到15MΩ.cm以上即0.066μs/ ㎝以下，25 ℃)工業(又稱超純水機、超純水設備等)/半導體用超純去離子水(指除去了呈離子方式雜質后的純水)

　　設備新工藝二:

　　原水(設有壓力保護)→增壓泵(一用一備)→砂過濾器→炭過濾器→軟化器(根據地區不合選用)→緊密過濾器(或稱保安過濾器)→兩頭水箱→RO前水泵→緊密過濾器(或稱保安過濾器)→RO高壓泵→RO反滲透系統→RO水箱→RO水增壓泵→普通混床→拋光混床→終端緊密過濾→UV紫外線殺菌→設備用水(水質可以達到18MΩ.cm以上即0.056μs/ ㎝以下，25 ℃)